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《真空电子技术》 双月刊 统计源核心

时间:2015-03-27 10:44 文章来源:http://www.lunwenbuluo.com 作者:李编辑 点击次数:

期刊简介:
  本刊1959年创刊,现为双月刊,国内外公开发行。是真空电子专业协会会刊,电真空情报网网刊,中国真空电子技术领域唯一的综合技术类刊物。主要刊登的是真空微波器件、离子器件真空开关器件等真空电子器件;CPT、CDT、PDP等显示器件和光电器件;照明光源;真空获得、测量、控制;气体分析;表面技术;电子材料及特殊工艺等方面的文章。同时报导本行业的最新信息和成果。

  主管单位:信息产业部
  主办单位:北京真空电子技术研究所
  国际标准刊号:ISSN 1002-8935
  国内统一刊号:CN 11-2485/TN   
  复合影响因子:0.460
  综合影响因子:0.293
  出版地:北京市
  创刊年:1959
  收录情况:国家新闻出版总署收录、知网数据库收录。
  主要栏目:专家论坛、研究报告、研究与设计、新技术、技术交流、工艺与应用、综述等栏目。

投稿须知:
  一、本刊要求作者有严谨的学风和朴实的文风,提倡互相尊重和自由讨论。凡采用他人学说,必须加注说明。
  二、不要超过10000字为宜,精粹的短篇,尤为欢迎。
  三、请作者将稿件(用WORD格式)发送到下面给出的征文信箱中。
  四、凡来稿请作者自留底稿,恕不退稿。
  五、为规范排版,请作者在上传修改稿时严格按以下要求:
  1.论文要求有题名、摘要、关键词、作者姓名、作者工作单位(名称,省市邮编)等内容一份。
  2.基金项目和作者简介按下列格式:
  基金项目:项目名称(编号)
  作者简介:姓名(出生年-),性别,民族(汉族可省略),籍贯,职称,学位,研究方向。
  3.文章一般有引言部分和正文部分,正文部分用阿拉伯数字分级编号法,一般用两级。插图下方应注明图序和图名。表格应采用三线表,表格上方应注明表序和表名。
  4.参考文献列出的一般应限于作者直接阅读过的、最主要的、发表在正式出版物上的文献。其他相关注释可用脚注在当页标注。参考文献的著录应执行国家标准GB7714-87的规定,采用顺序编码制。

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